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椭偏仪测量双层叠加膜膜厚及折射率方法 已有2人参与
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新人求助各位大神： 我使用的是se adv400激光椭偏仪，在单晶硅基底上使用PECVD法先镀上一层30nm左右的氧化铝膜，然后在氧化铝膜上再镀一层80nm左右的氮化硅膜。我想用椭偏仪测氧化铝和氮化硅双层叠加膜的整体膜厚及整体折射率，有办法实现吗？还是说只能得到最外层的膜厚折射率？如果能的话要怎么建立模型，下图中各层介质如何选择及参数怎么填写?另外一个问题：测量单晶硅基底上薄膜的膜厚折射率为什么要使用倾斜的平台？求大神详细解答   WP_20160112_21_34_53_Pro.jpg  WP_20151119_10_08_56_Pro.jpg |
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
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在单晶硅基底上使用PECVD法先镀上一层30nm左右的氧化铝膜，然后在氧化铝膜上再镀一层80nm左右的氮化硅膜。我想用椭偏仪测氧化铝和氮化硅双层叠加膜的整体膜厚及整体折射率，有办法实现吗？还是说只能得到最外层的膜厚折射率？如果能的话要怎么建立模型，下图中各层介质如何选择及参数怎么填写?另外一个问题：测量单晶硅基底上薄膜的膜厚折射率为什么要使用倾斜的平台？ --------------我用的是宽光谱椭偏，这个是可以测多层的，激光的提供的数据可能不够计算多层膜，还有周期性问题，建议单层单层的测； noname那里应该可以选SiN或是AlO吧~参数填写  这个一般在光谱椭偏里就是选个色散公式，这里没看到有哪可以选啊；你这单晶硅是用作PV，做了texture的吗？ 他们的倾斜台是用来测PV样的 |
2楼2016-01-29 15:58:32
3楼2016-12-28 17:18:44