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介孔硅的XRD表征出现这样的图谱为什么 已有10人参与
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照着文献中的方法，用阴离子表面活性剂为模板合成的介孔硅，在0.5度-10度进行XRD表征 ，结果出现的图谱和文献中说的在1度-2度出现一个较宽的峰不同，而是没有出现峰，直接在0,5度开始呈逐渐减低的趋势，这是为什么？难道做的介孔硅没成功，只是一些颗粒么？附图如下，求解惑。 QQ图片20160111174646.png |
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
wonderfulong: 金币+1, 谢谢应助，欢迎常来交流！ 2016-01-11 22:47:13
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
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把步长调到最小试一下，如果还是这样那就是样品的问题， 发自小木虫Android客户端 |
6楼2016-01-11 22:19:26
zyhou
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2楼2016-01-11 18:27:57
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wonderfulong: 金币+1, 谢谢应助，欢迎常来交流！ 2016-01-11 22:46:17
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如果与文献相比，XRD表征结果比较差，那肯定是合成过程中出现问题了！ 发自小木虫Android客户端 |
3楼2016-01-11 19:03:52
sqzhao
铁杆木虫 (著名写手)
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