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扬子888

木虫 (著名写手)

[交流] 【请教】陶瓷的研磨抛光

大家好,请问切割后的陶瓷面不够光滑平整,想加工一下该怎么办?有人说先用粗B4C粗磨,再用细的B4C细磨,然后用金刚石研磨膏抛光。我想知道具体的操作方法和设备,谁能告诉下,谢谢!就是说怎么用B4C磨料进行研磨,是在磨床上进行吗?金刚石抛光膏是在抛光机上直接抛吗?我很困惑~~
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稍安勿躁!
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lzy992003

木虫 (著名写手)

来自论文:Nd:Y3Al5O12透明陶瓷的超精密加工
        李军1,2,朱永伟1,左敦稳1,朱镛2,陈创天2
(1.南京航空航天大学,江苏省精密与微细加工制造技术重点实验室,南京210016;
2.中国科学院理化技术研究所北京人工晶体研究发展中心,北京100080)
不知到对你有用不
3楼2008-09-27 00:45:34
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lzy992003

木虫 (著名写手)

★ ★
洛阳学子(金币+2,VIP+0):回复认真 4-25 18:11
Nd:YAG陶瓷比较硬,为了获得较高的形状精度和提高加工效率,分步选择颗粒分别为28,14μm和7μm的碳化硼(B4C)磨料进行研磨。每换一次磨料研磨,均需去除前一次研磨所引起的损伤,保证尺寸精度。然后在Logitech PM5型精密研抛机上使用粒度为3μm的Al2O3和铸铁盘进行精密研磨,减小表面粗糙度和加工变质层;加工
参数:压力为58.8~98 kPa,主轴转速为30~60r/min。研磨之后,采用粒度为1μm的Al2O3和聚氨酯(polyurethane)抛光片,在Logitech PM5型精密研抛机上进行精密抛光,以提高表面光洁度。所用抛光参数如下:压力为29.4~58.8kPa,主轴转速为30~50 r/min。然后,换用0.3μm的Al2O3进行超精密抛光,以降低表面粗糙度和获得较高精度的平面度。最后,选用纳米级胶体SiO2与Chemcloth抛光片进行化学机械抛光,进一步降低表面粗糙度、减少表面微观损伤、减小亚表面损伤。超精密抛光的工艺参数如下:压力为4.9~19.6kPa,主轴转速为10~0 r/min。以上所用的Al2O3、Chemcloth纳米级胶体SiO2、聚氨酯和Chemcloth抛光片均为英国Logitech公司生产。
2楼2008-09-27 00:43:44
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扬子888

木虫 (著名写手)

引用回帖:
Originally posted by lzy992003 at 2008-9-27 00:45:
来自论文:Nd:Y3Al5O12透明陶瓷的超精密加工
        李军1,2,朱永伟1,左敦稳1,朱镛2,陈创天2
(1.南京航空航天大学,江苏省精密与微细加工制造技术重点实验室,南京210016;
2.中国科学院理化技术研究所北 ...

可以参考,非常感谢!~
稍安勿躁!
4楼2008-09-27 09:52:36
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