| 查看: 977 | 回复: 4 | ||
[求助]
微电镀时，镀层厚度不随时间不增加是为什么？ 已有1人参与
|
有二个问题求助于大家：第一个是在进行电镀的时候，电镀一个小时和电镀三个小时，镀层厚度都是30微米，为什么镀层不随时间而增加厚度，镀层厚度和什么有关系？第二是我们在镀金硅片上进行电镀，基片表面上清洗后出现划痕，想问一下镀金硅片如何清洗。谢谢大家 |
回复此楼» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有226人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
-
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件，或者CCDC号
已经有0人回复
-
河北大学-26年秋季入学申请考核制-化学博士1名
已经有0人回复
-
XPS/?λXPS
已经有0人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 一张图看懂世界范围内金属3D打印
已经有10人回复
- 覆层厚度的测量方法介绍
已经有11人回复
2楼2015-12-30 20:36:53
justinzhao
荣誉版主 (职业作家)
光电池和光电化学分版-电化 ...
- 应助: 19 (小学生)
- 贵宾: 1.824
- 金币: 11425.4
- 散金: 7157
- 红花: 103
- 沙发: 11
- 帖子: 4591
- 在线: 624.8小时
- 虫号: 285597
- 注册: 2006-10-14
- 性别: GG
- 专业: 电化学
- 管辖: 电化学
3楼2016-01-28 03:50:42
4楼2016-01-30 08:55:13
5楼2016-04-19 20:59:54