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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 测试表征 » 关于XRD测试图谱的问题
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chankityi

木虫 (正式写手)
引用回帖:
10楼: Originally posted by 碧水云天 at 2015-12-04 15:00:11
楼主可以尝试下短区间内窄扫，或者最简单的方法，把Y轴换成log坐标。至少会好看些。

谢谢

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11楼2015-12-04 15:14:08
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bmajw

铁杆木虫 (正式写手)
引用回帖:
9楼: Originally posted by chankityi at 2015-12-03 22:45:36
硅片的峰为什么会出现直线上升段呢？
...

也是。失误了。不过还是可以去比对排除下。

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世间无非过云楼，何事值得你犯愁？荣辱得失算什么，此生只向喵低头。
12楼2015-12-04 15:24:28
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caoxiafei

专家顾问 (著名写手)

研发工程师-Topcon/HJT电池
引用回帖:
4楼: Originally posted by chankityi at 2015-12-03 19:21:35
请问掠入射xrd有什么优势呢？谢谢
...

层状材料，
结晶度小的材料，太薄的材料，利用掠入射XRD测试的峰的强度较高，降低基底对薄膜的干扰。典型的设备是布鲁克D8
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13楼2015-12-05 07:34:34
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chankityi

木虫 (正式写手)
引用回帖:
13楼: Originally posted by caoxiafei at 2015-12-05 07:34:34
层状材料，
结晶度小的材料，太薄的材料，利用掠入射XRD测试的峰的强度较高，降低基底对薄膜的干扰。典型的设备是布鲁克D8...

嗯嗯，谢谢

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14楼2015-12-05 08:10:42
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liguojing

银虫 (小有名气)
想问一下这是什么硅片？我也有这个，好多年前毕业的师兄留下的，没有标签。
我的硅片上面的峰和你的几乎一致，应该是硅片或者杂质峰，66°是有一个峰但是被后面的掩盖了，所以只有一个上升，61.5°位置我的硅片也有一个小的尖峰，有鼓包可能是你镀的材料。
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15楼2017-03-06 17:30:30
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