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做H2-TPR中在200-400℃出现倒峰,我的催化剂是氧化镍氧化钨,载体是氧化铝和USY分子筛
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ylj082500
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做H2-TPR中在200-400℃出现倒峰,我的催化剂是氧化镍氧化钨,载体是氧化铝和USY分子筛
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我在60℃下走基线30min没有问题,然后再升温。
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感谢参与,应助指数 +1
还原前有没有热处理?好像是脱附的水!
或者就是还原峰和水的脱附峰连在一起了。
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2015-11-19 17:06:37
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2楼
:
Originally posted by
zyhou
at 2015-11-19 17:06:37
还原前有没有热处理?好像是脱附的水!
或者就是还原峰和水的脱附峰连在一起了。
没有进行热处理,你的意思是在200℃左右脱附的水吗?
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3楼
2015-11-19 17:10:13
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ylj082500: 金币+10,
★★★
很有帮助, 谢谢,我试试看
2015-11-19 20:13:54
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3楼
:
Originally posted by
ylj082500
at 2015-11-19 17:10:13
没有进行热处理,你的意思是在200℃左右脱附的水吗?...
没有进行热处理的话, 应该是水
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4楼
2015-11-19 19:20:33
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zyhou
at 2015-11-19 19:20:33
没有进行热处理的话, 应该是水...
我在200℃热处理一个小时,结果又在300℃出现基线往下走的情况了。。。
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5楼
2015-11-19 20:20:18
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5楼
:
Originally posted by
ylj082500
at 2015-11-19 20:20:18
我在200℃热处理一个小时,结果又在300℃出现基线往下走的情况了。。。...
解决了吗,我也出现倒峰的现象了,可以交流下吗
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6楼
2016-08-05 14:58:08
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6楼
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Originally posted by
占林军
at 2016-08-05 14:58:08
解决了吗,我也出现倒峰的现象了,可以交流下吗...
结局就是数据不用了~~~
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7楼
2016-08-05 20:22:18
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