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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 腐蚀防护 » 求助!电沉积In薄膜，只能镀上边缘部分！
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tt02331

铜虫 (小有名气)

[交流] 求助!电沉积In薄膜，只能镀上边缘部分！

最近在铜片上镀In，看了一些文献，采用In2(SO4)3作主盐，Na2SO4作导电盐，电镀过程中不断析氢，其他参数都没有问题，可就是镀不上。于是加了一点表面活性剂，针孔和麻点减少了，但只有边缘部分镀上。实在找不到原因了，还请各位高手指点一下！感激不尽！

[ Last edited by Rainycc on 2009-3-5 at 17:07 ]
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1楼 2008-09-15 15:21:40
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shiptech

新虫 (著名写手)
电镀工艺配方设计、新技术应用实例与质量检测标准规范使用手冊

那上面有几个镀铟配方
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6楼2008-09-16 20:33:35
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shiptech

新虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by tt02331 at 2008-9-15 15:21:
...只有边缘部分镀上 ...

建议先做赫尔槽试验...可以试一试：1.提高In离子浓度；2.调高电流密度或用脉冲电流；3.阴极移动
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2楼2008-09-15 16:22:06
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tt02331

铜虫 (小有名气)
这些都试过了，还是不行
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3楼2008-09-16 10:56:21
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tt02331

铜虫 (小有名气)
也试过了
我想可能是镀液配方出了问题，才会不断地析氢呢？
不知道哪位高手电镀过铟In？可以指点一下吗？

[ Last edited by tt02331 on 2008-9-16 at 17:04 ]
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5楼2008-09-16 17:02:57
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