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Gavin6152

金虫 (小有名气)

[求助] 磁控共溅射Cu-Ta薄膜,制得的薄膜大片剥落,求解已有15人参与

si衬底室温磁控共溅射Cu-Ta薄膜,功率为200W/100W,沉积40min,制得的薄膜大片剥落,有人了解是怎么回事吗?难道是膜太厚?Cu/Ta功率为50W/250W时没出现剥落现象

磁控共溅射Cu-Ta薄膜,制得的薄膜大片剥落,求解
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer


【答案】应助回帖

个人认为,极有可能是Cu膜的热涨冷缩造成的热应力导致的剥落。铜靶的溅射功率加大了一倍,膜中的铜的比例会显著增加,钽的溅射功率下降很多,其在膜中的比例会显著减小,由此可能导致薄膜的热膨胀系数与基板存在了较大的差异,由此引起极大的热应力造成膜的剥落。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
47楼2015-11-15 18:38:30
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Gavin6152(金币+1): 谢谢参与
2楼2015-11-11 22:16:59
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xhj543240343

金虫 (著名写手)


Gavin6152(金币+1): 谢谢参与
努力学习,不要落后
3楼2015-11-11 22:24:30
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Gavin6152(金币+1): 谢谢参与
4楼2015-11-11 22:28:13
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