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Gavin6152

金虫 (小有名气)

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[求助] 磁控共溅射Cu-Ta薄膜,制得的薄膜大片剥落,求解已有15人参与

si衬底室温磁控共溅射Cu-Ta薄膜，功率为200W/100W，沉积40min，制得的薄膜大片剥落，有人了解是怎么回事吗？难道是膜太厚？Cu/Ta功率为50W/250W时没出现剥落现象

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1楼 2015-11-11 22:13:50

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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

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专业: 功能陶瓷

【答案】应助回帖

个人认为，极有可能是Cu膜的热涨冷缩造成的热应力导致的剥落。铜靶的溅射功率加大了一倍，膜中的铜的比例会显著增加，钽的溅射功率下降很多，其在膜中的比例会显著减小，由此可能导致薄膜的热膨胀系数与基板存在了较大的差异，由此引起极大的热应力造成膜的剥落。

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