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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 磁控共溅射Cu-Ta薄膜,制得的薄膜大片剥落,求解
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Gavin6152

金虫 (小有名气)

[求助] 磁控共溅射Cu-Ta薄膜,制得的薄膜大片剥落,求解 已有15人参与

si衬底室温磁控共溅射Cu-Ta薄膜，功率为200W/100W，沉积40min，制得的薄膜大片剥落，有人了解是怎么回事吗？难道是膜太厚？Cu/Ta功率为50W/250W时没出现剥落现象

磁控共溅射Cu-Ta薄膜,制得的薄膜大片剥落,求解
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1楼 2015-11-11 22:13:50
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柯南@新一

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你有镀过渡层吗？可以在开始镀的时候用高偏压预溅射几分钟，或者是镀下Ta的过渡层，可能是膜与基底的结合力不好，但是Ta和Si的结合很好的啊，我做的没有出现过
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33楼2015-11-14 15:21:06
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123木头羊
★
Gavin6152(金币+1): 谢谢参与
。

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2楼2015-11-11 22:16:59
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xhj543240343

金虫 (著名写手)
★
Gavin6152(金币+1): 谢谢参与
好运

发自小木虫Android客户端
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努力学习，不要落后
3楼2015-11-11 22:24:30
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longwave
★
Gavin6152(金币+1): 谢谢参与
祝福

发自小木虫Android客户端
4楼2015-11-11 22:28:13
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