| 查看: 424 | 回复: 0 | |||
[交流]
相同的功率对不同的溅射靶材（Zn和ZnO）磁控溅射制得的ZnO薄膜有什么影响？？
|
| 在论文《ZnO缓冲层和退火处理对MgO薄膜结构的影响》中，笔者用的是Zn靶材，但是实验室只有ZnO靶材。我想知道功率对这两个靶材制备的ZnO薄膜有什么影响，还望有过相关研究或者做过相关实验的前辈给点指导啊 |
回复此楼» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有213人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
-
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件，或者CCDC号
已经有0人回复
-
河北大学-26年秋季入学申请考核制-化学博士1名
已经有0人回复
-
XPS/?λXPS
已经有0人回复
