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huangyanjie金虫 (小有名气)
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用氰胺合成的g-C3N4 已有5人参与
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最近一直在做用氰胺合成g-C3N4,合成出来的g-C3N4通过做XRD表征发现在18处出现一个强峰，不知道这个峰是什么东西？是模板SiO2没洗掉完吗？如果是，应怎样洗涤完？请各位虫友给于帮助！谢谢！我洗涤得到的g-C3N4的步骤是：将得到的g-C3N4研磨后倒入到塑料杯里，然后将配好的4M NH4HF2加入其中，进行搅拌，静止，倒掉上层溶液，经多次洗涤，然后再用水将其溶液洗涤到中性（用水洗涤时，我用离心机进行离心，将其洗涤成中性），然后在60度的真空干燥箱中干燥。另外我看个别文献在用水洗涤到中性后，又用乙醇洗涤的原因是什么？请指教！谢谢！XRD图如下 bw142h1489229_1430229383_604.gif |
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木虫 (正式写手)
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【答案】应助回帖
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huangyanjie: 金币+5, ★★★★★最佳答案, 很有帮助 2015-12-18 10:14:02
huangyanjie: 金币+5, ★★★★★最佳答案, 很有帮助 2015-12-18 10:14:02
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乙醇洗，用60度可以挥发完，因为乙醇沸点低。用过量的hf,可以除去二氧化硅 发自小木虫Android客户端 |
17楼2015-12-17 00:04:19
2楼2015-11-07 10:05:00
huangyanjie
金虫 (小有名气)
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- 专业: 胶体与界面化学
3楼2015-11-13 11:17:57
4楼2015-11-13 12:42:00