2楼: Originally posted by 冰点降温 at 2015-11-06 13:12:02
建议详细描述制备工艺，否则很难求助。
高纯多晶硅的制备方法有三氯氢硅还原法，硅烷热分解法，四氯化硅氢还原法等，都不需要使用氢氟酸。

3楼: Originally posted by 宋2015木虫 at 2015-11-06 15:04:58
用二氧化硅与镁粉或铝粉采用热还原法还原，生成硅，氧化镁，还有剩余的二氧化硅和镁（铝类似）；再用盐酸后处理除去氧化镁，镁；不用氢氟酸能除去多余的二氧化硅吗？
另外，单晶硅和多晶硅在制备过程中有区别吗？ ...

4楼: Originally posted by 冰点降温 at 2015-11-06 16:08:29
也可以用浓碱去除二氧化硅。多晶硅和单晶硅的生产当然有区别。单晶硅通常都是多晶硅熔融控制结晶得来的。常用方法有区域熔融法和直拉法。现在也有一些其它方法，但以直拉法为主要工业生产方法。
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5楼: Originally posted by 宋2015木虫 at 2015-11-06 17:17:32
浓碱不是把制得的硅也反应了吗？...

6楼: Originally posted by 冰点降温 at 2015-11-06 18:00:14
可以通过反应速率控制，反应速率并非很快，消耗一点难免，可以通过实验条件进行控制。...

7楼: Originally posted by 宋2015木虫 at 2015-11-07 08:24:54
能具体说一下用浓碱处理含有被盐酸处理洗到中性的含有硅，二氧化硅的工艺吗？例如碱的浓度，反应时间，反应温度等，谢谢了！...

8楼: Originally posted by 冰点降温 at 2015-11-07 09:35:23
可以查阅太阳能电池的硅片蚀刻工艺，一般有氢氟酸刻蚀和苛性钠刻蚀，两种蚀刻方法都是比较成熟的，两种方法的区别在于刻蚀后硅片表面的形貌不同。
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