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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 无机/物化 » 无机化学 » 热还原法不用氢氟酸后处理能得到单质硅吗？
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宋2015木虫

银虫 (小有名气)

[求助] 热还原法不用氢氟酸后处理能得到单质硅吗？ 已有1人参与

如题，热还原法制备单质硅，不用HF后处理，能得到单质硅吗？
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1楼 2015-11-06 08:31:12
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冰点降温

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【答案】应助回帖

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宋2015木虫: 金币+2, ★★★很有帮助 2015-11-06 15:05:40
建议详细描述制备工艺，否则很难求助。
高纯多晶硅的制备方法有三氯氢硅还原法，硅烷热分解法，四氯化硅氢还原法等，都不需要使用氢氟酸。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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生于忧患，死于安乐。
2楼2015-11-06 13:12:02
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宋2015木虫

银虫 (小有名气)
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2楼: Originally posted by 冰点降温 at 2015-11-06 13:12:02
建议详细描述制备工艺，否则很难求助。
高纯多晶硅的制备方法有三氯氢硅还原法，硅烷热分解法，四氯化硅氢还原法等，都不需要使用氢氟酸。

用二氧化硅与镁粉或铝粉采用热还原法还原，生成硅，氧化镁，还有剩余的二氧化硅和镁（铝类似）；再用盐酸后处理除去氧化镁，镁；不用氢氟酸能除去多余的二氧化硅吗？
另外，单晶硅和多晶硅在制备过程中有区别吗？先表示感谢！
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3楼2015-11-06 15:04:58
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冰点降温

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【答案】应助回帖

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3楼: Originally posted by 宋2015木虫 at 2015-11-06 15:04:58
用二氧化硅与镁粉或铝粉采用热还原法还原，生成硅，氧化镁，还有剩余的二氧化硅和镁（铝类似）；再用盐酸后处理除去氧化镁，镁；不用氢氟酸能除去多余的二氧化硅吗？
另外，单晶硅和多晶硅在制备过程中有区别吗？ ...

也可以用浓碱去除二氧化硅。多晶硅和单晶硅的生产当然有区别。单晶硅通常都是多晶硅熔融控制结晶得来的。常用方法有区域熔融法和直拉法。现在也有一些其它方法，但以直拉法为主要工业生产方法。

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生于忧患，死于安乐。
4楼2015-11-06 16:08:29
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宋2015木虫

银虫 (小有名气)
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4楼: Originally posted by 冰点降温 at 2015-11-06 16:08:29
也可以用浓碱去除二氧化硅。多晶硅和单晶硅的生产当然有区别。单晶硅通常都是多晶硅熔融控制结晶得来的。常用方法有区域熔融法和直拉法。现在也有一些其它方法，但以直拉法为主要工业生产方法。
...

浓碱不是把制得的硅也反应了吗？
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5楼2015-11-06 17:17:32
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冰点降温

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【答案】应助回帖

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宋2015木虫: 金币+2, ★★★很有帮助 2015-11-07 08:22:21
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5楼: Originally posted by 宋2015木虫 at 2015-11-06 17:17:32
浓碱不是把制得的硅也反应了吗？...

可以通过反应速率控制，反应速率并非很快，消耗一点难免，可以通过实验条件进行控制。
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6楼2015-11-06 18:00:14
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宋2015木虫

银虫 (小有名气)
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6楼: Originally posted by 冰点降温 at 2015-11-06 18:00:14
可以通过反应速率控制，反应速率并非很快，消耗一点难免，可以通过实验条件进行控制。...

能具体说一下用浓碱处理含有被盐酸处理洗到中性的含有硅，二氧化硅的工艺吗？例如碱的浓度，反应时间，反应温度等，谢谢了！
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7楼2015-11-07 08:24:54
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7楼: Originally posted by 宋2015木虫 at 2015-11-07 08:24:54
能具体说一下用浓碱处理含有被盐酸处理洗到中性的含有硅，二氧化硅的工艺吗？例如碱的浓度，反应时间，反应温度等，谢谢了！...

可以查阅太阳能电池的硅片蚀刻工艺，一般有氢氟酸刻蚀和苛性钠刻蚀，两种蚀刻方法都是比较成熟的，两种方法的区别在于刻蚀后硅片表面的形貌不同。

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宋2015木虫
生于忧患，死于安乐。
8楼2015-11-07 09:35:23
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宋2015木虫

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8楼: Originally posted by 冰点降温 at 2015-11-07 09:35:23
可以查阅太阳能电池的硅片蚀刻工艺，一般有氢氟酸刻蚀和苛性钠刻蚀，两种蚀刻方法都是比较成熟的，两种方法的区别在于刻蚀后硅片表面的形貌不同。
...

谢谢！
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9楼2015-11-07 10:12:53
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