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CTAB修饰硅负极
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想用CTAB修饰硅颗粒： 1.如果想采用无水条件，如甲苯，必须严格蒸馏压纳丝吗？如果用商业购买的会有很大影响吗？ 2.如果硅颗粒形状和大小不是很均一，会产生很大影响吗？（几十-几百纳米，形状有球形，方形等） 3.硅表面必须存在氧化层吗？如果是硅单质还能被CTAB修饰吗？ 先谢谢各路大神，大四本科生一枚，初入实验室，求指教   |
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