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硅纳米基地的图形转移（翻膜）问题。 已有2人参与
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| 以前我们组是用PMMA溶液转移（翻膜）微米级的硅片表面（互补）图形。现在我做了个纳米级的腐蚀。发现转移不了了。黏附的过于紧密。是否该用别的材料PDMS来转移。能转移得了吗？需不需对硅做疏水处理，对图形转移有什么影响吗？ |
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【答案】应助回帖
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我想用光刻和干法蚀刻的方法来制作微桥，其中有一步骤表面处理是在金薄膜上面放teflong来确保薄膜不被热的KOH溶液腐蚀，请问您是怎么将teflong转移到薄膜上呢？ xw_ustb@126.com，我邮箱，希望和您深入探讨 |
3楼2015-11-06 11:10:07
yswyx 
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2楼2015-10-21 17:02:21
yswyx
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4楼2015-11-06 12:03:23