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2673756335

铁虫 (小有名气)

[求助] 请问怎么用PDMS把湿法刻蚀得到的硅纳米线从硅基底上取下来? 已有1人参与

请问怎么用PDMS把湿法刻蚀得到的硅纳米线从硅基底上取下来?试过好多次,都不成功,想知道原因。
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pizde

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
2673756335: 金币+10 2015-10-17 22:51:51
Automatic Release of Silicon Nanowire Arrays with a High Integrity for Flexible Electronic Devices,你下载下这篇文献,利用水蒸方法制备氧化硅保护层,氨水微刻蚀缺陷剥离硅纳米线的方法
2楼2015-10-14 15:57:20
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2673756335

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by pizde at 2015-10-14 15:57:20
Automatic Release of Silicon Nanowire Arrays with a High Integrity for Flexible Electronic Devices,你下载下这篇文献,利用水蒸方法制备氧化硅保护层,氨水微刻蚀缺陷剥离硅纳米线的方法

我看这篇文献了,这个水蒸的方法是怎么进行的?

发自小木虫Android客户端
3楼2015-10-14 20:19:05
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2673756335

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by pizde at 2015-10-14 15:57:20
Automatic Release of Silicon Nanowire Arrays with a High Integrity for Flexible Electronic Devices,你下载下这篇文献,利用水蒸方法制备氧化硅保护层,氨水微刻蚀缺陷剥离硅纳米线的方法

我试过了,您是最后有没有用PDMS旋涂?我用氨水刻蚀了三十分钟还是用胶带粘不下来,最后又涂了PDMS,还是不行,请问是什么原因?
4楼2015-10-17 22:53:23
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