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glorylin

金虫 (小有名气)

[求助] 为什么SiO2用XPS分析图计算出的Si/O比是1比1 已有1人参与

我做的样品是介孔二氧化硅。照理说应该硅氧比应该是1:2。但是我做了XPS分析,根据图上计算出来的硅氧比是0.94,接近1:1。这是为什么?我的样品事先用Ar+刻蚀了5min。杂质应该没有影响了吧。你们有做过二氧化硅样品吗,做出来的硅氧比是不是接近1:2吗?
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glorylin

金虫 (小有名气)

引用回帖:
6楼: Originally posted by 杨子煜 at 2015-10-26 18:33:44
原因一,你算错了;
原因二,就算是刻蚀5min,也只是对表面污染C有所去除,均匀的刻蚀一层Si-O是不可能的,所以表面仍然是很多缺陷、断键、悬挂键,导致所得Si-O比例;
原因三,窃以为,用XPS来分析非薄膜材料的成 ...

谢谢回答。我想请教下,你有做过SiO2的XPS吗,是不是硅氧比接近1比2. 还是说XPS的结果跟组成基本没关系?
7楼2015-11-01 14:29:03
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莱古拉斯

木虫 (小有名气)

制备xps样品的衬底是什么?

发自小木虫Android客户端
我的爱天下不止有风吹过
3楼2015-10-16 15:59:53
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glorylin

金虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 莱古拉斯 at 2015-10-16 15:59:53
制备xps样品的衬底是什么?

氧化铟锡电极。你有做过SiO2之类的XPS吗?谢谢
4楼2015-10-16 21:13:54
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懒羊羊450

新虫 (初入文坛)

可以请问一下si/o比例在XPS图中是怎么计算的么?
5楼2015-10-25 19:31:06
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