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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 为什么SiO2用XPS分析图计算出的Si/O比是1比1
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glorylin

金虫 (小有名气)

[求助] 为什么SiO2用XPS分析图计算出的Si/O比是1比1 已有1人参与

我做的样品是介孔二氧化硅。照理说应该硅氧比应该是1:2。但是我做了XPS分析，根据图上计算出来的硅氧比是0.94，接近1:1。这是为什么？我的样品事先用Ar+刻蚀了5min。杂质应该没有影响了吧。你们有做过二氧化硅样品吗，做出来的硅氧比是不是接近1:2吗？
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1楼 2015-10-13 21:37:27
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glorylin

金虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by 杨子煜 at 2015-10-26 18:33:44
原因一，你算错了；
原因二，就算是刻蚀5min，也只是对表面污染C有所去除，均匀的刻蚀一层Si-O是不可能的，所以表面仍然是很多缺陷、断键、悬挂键，导致所得Si-O比例；
原因三，窃以为，用XPS来分析非薄膜材料的成 ...

谢谢回答。我想请教下，你有做过SiO2的XPS吗，是不是硅氧比接近1比2. 还是说XPS的结果跟组成基本没关系？
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7楼2015-11-01 14:29:03
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莱古拉斯

木虫 (小有名气)
制备xps样品的衬底是什么？

发自小木虫Android客户端
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我的爱天下不止有风吹过
3楼2015-10-16 15:59:53
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glorylin

金虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 莱古拉斯 at 2015-10-16 15:59:53
制备xps样品的衬底是什么？

氧化铟锡电极。你有做过SiO2之类的XPS吗？谢谢
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4楼2015-10-16 21:13:54
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懒羊羊450

新虫 (初入文坛)
可以请问一下si/o比例在XPS图中是怎么计算的么？
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5楼2015-10-25 19:31:06
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