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碳分子筛铜虫 (小有名气)
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多次预处理后TPD表征在103C一直出现峰的原因 已有1人参与
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最近我在做H2-TPD,催化剂首先在400C预处理1h，然后程序升温至500C还原两个2h. 降至室温后吸附H2，1小时后，在氮气气氛下程序升温至500C并维持1 h。 在升温的过程中，在103C出现一脱附峰，且峰的脱附温度很宽。我怀疑这是水的脱附峰，然后降至室温后不通氢气，在氮气气氛下走平基线后升温，同样在100C左右出现该峰。 重复多次后，该峰依然存在，请问这个峰是什么，如何消除，谢谢。 |
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3楼2015-09-26 08:38:03
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