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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 催化 » 表征 » 多次预处理后TPD表征在103C一直出现峰的原因
北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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碳分子筛

铜虫 (小有名气)

[求助] 多次预处理后TPD表征在103C一直出现峰的原因 已有1人参与

最近我在做H2-TPD,催化剂首先在400C预处理1h，然后程序升温至500C还原两个2h.
降至室温后吸附H2，1小时后，在氮气气氛下程序升温至500C并维持1 h。
在升温的过程中，在103C出现一脱附峰，且峰的脱附温度很宽。我怀疑这是水的脱附峰，然后降至室温后不通氢气，在氮气气氛下走平基线后升温，同样在100C左右出现该峰。
重复多次后，该峰依然存在，请问这个峰是什么，如何消除，谢谢。
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CO2资源化利用
1楼 2015-09-25 23:36:05
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zyhou

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
什么催化剂? 说不定就是还原峰?  或者氢溢流?
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2楼2015-09-26 07:47:25
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碳分子筛

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by zyhou at 2015-09-26 07:47:25
什么催化剂? 说不定就是还原峰?  或者氢溢流?

Pd/Al2O3催化剂，如果是氢溢流或者是H2脱附峰，再程序脱附完毕后再升温的话应该不会再出现脱附峰呢，现在每升温一次都会出现这个峰，怎么解释呢，侯老师。（在氮气气氛下升温）
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CO2资源化利用
3楼2015-09-26 08:38:03
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zyhou

专家顾问 (文坛精英)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 碳分子筛 at 2015-09-26 08:38:03
Pd/Al2O3催化剂，如果是氢溢流或者是H2脱附峰，再程序脱附完毕后再升温的话应该不会再出现脱附峰呢，现在每升温一次都会出现这个峰，怎么解释呢，侯老师。（在氮气气氛下升温）...

估计载气或者预处理气体不纯！
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4楼2015-09-26 09:26:39
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