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jiajinhpu木虫 (著名写手)
新起之秀
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电化学沉积石墨烯
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两电极体系，溶液为石墨烯，铜或镍片为工作电极，铂片为对电极，电压范围为-0.5-2V，扫描速率为50mV/s，怎么我这样重复文献里的工作，却在铜或镍片沉积不上石墨烯，请问铜或镍片除了丙酮，乙醇，水洗后还需要其他处理吗？我对基低也进行了化学抛光和物理抛光还是沉积不上。铂片和基底片的大小和它们之间的距离有影响吗？电压范围为什么选取-0.5-2V？非常感谢，金币不够我还可以追加，请大家指教。 镍片/铜片前期要不要进行处理（如物理抛光或化学抛光），组装时铂片和镍片/铜片之间的距离，铂片和镍片/铜片的尺寸大小对垂直阵列S-G纳米片沉积到基底上有没有影响？或者怎样做才可以沉积上？ 参考文献：Li B, Li S, Liu J, et al. Vertically Aligned Sulfur–Graphene Nanowalls on Substrates for Ultrafast Lithium–Sulfur Batteries[J]. Nano letters, 2015, 15(5): 3073-3079. |
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本内容由用户自主发布，如果其内容涉及到知识产权问题，其责任在于用户本人，如对版权有异议，请联系邮箱：xiaomuchong@tal.com - 附件 1 : NL-2015-Vertically_Aligned_Sulfur–Graphene_Nanowalls_on_Substrates_for_Ultrafast_Lithium–Sulfur_Batteries.pdf
- 附件 2 : NL-2015-Vertically_Aligned_Sulfur-Graphene_Nanowalls_on_Substrates_for-S.pdf
2015-08-18 17:51:53, 459.02 K
2015-08-18 17:52:22, 5.72 M
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