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【请教】请教离子掺杂与半导体复合问题
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请问一下，TiO2的改性方法中的离子掺杂和半导体复合这两种方法怎么来区别呢？看了很多文献，我越来越糊涂了。一篇文献中，本来是掺入的离子，不过XPS检测在表面出现了氧化物，那么这种方法属于离子掺杂还是半导体复合。这两者的本质区别在哪里 [ Last edited by caosw2001 on 2008-8-26 at 08:44 ] |
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