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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 资源交流 » 样品在基底上自组装后，用去离子水冲洗，请问怎么冲洗才是正确的？
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凡落Y

木虫 (小有名气)

[交流] 样品在基底上自组装后，用去离子水冲洗，请问怎么冲洗才是正确的？

After irradiation, the glass pieces were washed with distilled water and anhydrous ethanol several times each and then dried in a vacuum oven for 2 h at 50 C.
这是一篇文献中的，请问正确的冲洗方法是什么？不会把样从基底上冲下来吗？我每次做的样残留在基底上的量都很少，这是为什么？
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1楼 2015-07-08 13:25:19
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凡落Y

木虫 (小有名气)
自己先顶一个吧，大家实验有没有用到这一步的，给个建议呗
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16楼2015-07-08 13:52:01
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查看全部 27 个回答

明亮的眼眸

版主 (文坛精英)
★ ★
凡落Y(金币+1): 谢谢参与
凡落Y: 金币+1 2015-07-08 14:03:18
多查找几篇文献，对比一下。

[ 发自小木虫客户端 ]
赞一下(1人) 回复此楼
10楼2015-07-08 13:48:18
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)
★ ★
凡落Y(金币+1): 谢谢参与
凡落Y: 金币+1 2015-07-08 14:03:44
物理吸附建议不要洗，化学吸附随便冲，不会掉的
赞一下(1人) 回复此楼
11楼2015-07-08 13:49:23
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gorgan7楼
2015-07-08 13:38   回复  
凡落Y(金币+1): 谢谢参与
祝福 [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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