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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » CVD包碳使用的碳源气体可否为混合气
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yetiannan

木虫 (正式写手)

[求助] CVD包碳使用的碳源气体可否为混合气 已有1人参与

求教: 本人想用CVD方法在粉体材料表面包碳，由于实验室的安全问题，现在碳源气体不能选择纯的C2H2，请问能否将C2H2与N2混合使用作为碳源气，如果可行，那么二者的比例该如何选择，有懂的大神们请不吝赐教，谢谢大家！
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无欲则刚
1楼 2015-07-02 20:21:48
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杨建军205

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
yetiannan: 金币+10 2015-07-17 11:07:30
化学气相沉积使用C2H2+Ar混合气，一般情况下都是安全的，因为真空室中是负压，而且没有氧气，不会有燃烧或者爆炸危险。为何不能选择纯的C2H2，如果使用C2H2与N2混合气体，不一定能够沉积碳膜，有可能包的是C3N4，不知道会不会影响你的使用。
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yetiannan
2楼2015-07-03 21:21:33
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yetiannan

木虫 (正式写手)
送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by 杨建军205 at 2015-07-03 21:21:33
化学气相沉积使用C2H2+Ar混合气，一般情况下都是安全的，因为真空室中是负压，而且没有氧气，不会有燃烧或者爆炸危险。为何不能选择纯的C2H2，如果使用C2H2与N2混合气体，不一定能够沉积碳膜，有可能包的是C3N4，不 ...

谢谢您的回复，我之前没有做过CVD，所以还想请教下您，真空室在CVD前是需要抽到负压，然后通入混合气，炉管内压力逐渐增大，直至炉内气压达到一个大气压，这个时候尾气就可以开始往外排了，我想问问CVD的过程是不是在常压下完成的？
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无欲则刚
3楼2015-07-04 14:23:25
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杨建军205

银虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yetiannan at 2015-07-04 14:23:25
谢谢您的回复，我之前没有做过CVD，所以还想请教下您，真空室在CVD前是需要抽到负压，然后通入混合气，炉管内压力逐渐增大，直至炉内气压达到一个大气压，这个时候尾气就可以开始往外排了，我想问问CVD的过程是不是 ...

CVD一般是在真空负压下完成的，真空室末端是有泵抽气系统（机械泵+分子泵等等）实现一个洁净的环境，并且化学气相沉积也是在负压下完成的（0.1pa到几十pa，比一个大气压小得多，一般都是这种低压CVD，当然你想要用的是不是常压或者高于CVD？那么其反应的速率就要严格控制了。）有常压CVD，具体了解多查资料吧。
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4楼2015-07-05 09:04:11
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