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shiyujie

[交流] 【求助】 帮忙分析聚酰亚胺/蒙脱土 X射线衍射图

图1为我购买的有机改性的蒙脱土的X射线衍射图,主要的峰为2θ=2.8,图2为我用聚酰亚胺插层蒙脱土,结果2θ=2.8的峰消失,但是却出来了个2θ=5.6的峰,如何解释呢?这个结果能够说明我的改性成功了吗?正常的结果应该是所有的峰消失,蒙脱土变成剥离型的了。就此问题请教大家了,谢谢!图表是扫面的,不很清晰,多请见谅!

[ Last edited by chentp on 2008-7-22 at 08:21 ]
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iop

金虫 (小有名气)

引用回帖:
Originally posted by shiyujie at 2008-7-22 08:18:
图1为我购买的有机改性的蒙脱土的X射线衍射图,主要的峰为2θ=2.8,图2为我用聚酰亚胺插层蒙脱土,结果2θ=2.8的峰消失,但是却出来了个2θ=5.6的峰,如何解释呢?这个结果能够说明我的改性成功了吗?正常的结果应 ...

对聚酰亚胺的衍射峰不了解,但估计不该在2θ=5.6出峰。
一般而言,就我的经验,这个峰表示蒙脱土的层间距减小了,原因可能是插层剂分解。插层并不成功,更不用提剥离了。

做个TEM就可以看到了,应该会看到几十个片层的蒙脱土团聚体
4楼2008-08-18 22:57:35
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查看全部 6 个回答

陈希磊

木虫 (著名写手)

就像你自己所说,制备的样品应该是插层结构,或者插层结构为主。如果完全没有没有峰,那就是层离结构。
2楼2008-07-22 08:45:34
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585685

木虫 (著名写手)

1随着有机化程度的增加, 蒙脱土在6. 94°的特征
衍射峰向低角度位移甚至消失,所以你买的O-MMT的2θ=2.8
2可以观察到你的后者峰型变宽了,并且强度减少(由于有机化程度相对高了),可以知道PI/0-MMT纳
米复合材料至少形成了(或者存在了)剥离型纳米结构,PI通过破
坏蒙脱土的晶体结构插层到蒙脱土的层间
3建议作个IR可以证明这个结论还有TEM,这样证据充分些.将IR和XRD,TEM结合起来分析

[ Last edited by 585685 on 2008-8-19 at 12:46 ]
说了多少回了!!!!!!!!做人要厚道!!!!!!!
3楼2008-08-18 11:11:09
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yachongqing

铜虫 (小有名气)

这个不是很好说明,还是应该做一些别的测试,来佐证,或者重新制作样品进行测试。
5楼2008-08-22 10:00:38
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