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刘彦明2013
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电化学沉积
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求大神指导,小弟想做一下电沉积,在ITO玻璃上电沉积一层硫化镉薄膜,根据文献用的硫酸镉和硫代硫酸钠作为电解液,用柠檬酸调剂pH值,阴极沉积电压 -1V,可是做了几次都没有沉积上
,有没有人做过,求大神指导
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相信自己,我一定会成功
1楼
2015-05-14 17:03:02
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青若: 金币+1, 谢谢回帖,欢迎常来无机物化版交流
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3楼
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Originally posted by
刘彦明2013
at 2015-05-15 14:21:30
文献上是 现在ITO上做二氧化钛,然后在TiO2上沉积的硫化镉,那我需要改变什么条件...
这个有点难啊,你做的第一层TiO2都不一定和文献完全一样,所以第二次沉的条件很可能更不一样,而且就TiO2本身来说,导电性并不太好,所以实验重复性也会差一点,具体怎么改我就不知道了,我做的体系和你不完全一样的
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2015-05-15 14:59:32
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gxytju2008
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2015-05-16 09:07:09
周围条件试试吧,另外参比电极要校定,电极材料,电化学池不一样,参数都要调整一些的
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2楼
2015-05-15 11:05:14
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刘彦明2013
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gxytju2008
at 2015-05-15 11:05:14
周围条件试试吧,另外参比电极要校定,电极材料,电化学池不一样,参数都要调整一些的
文献上是 现在ITO上做二氧化钛,然后在TiO2上沉积的硫化镉,那我需要改变什么条件
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3楼
2015-05-15 14:21:30
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4楼
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gxytju2008
at 2015-05-15 14:59:32
这个有点难啊,你做的第一层TiO2都不一定和文献完全一样,所以第二次沉的条件很可能更不一样,而且就TiO2本身来说,导电性并不太好,所以实验重复性也会差一点,具体怎么改我就不知道了,我做的体系和你不完全一样 ...
我没有做二氧化钛,我直接在ITO上做硫化镉薄膜,ITO玻璃需要什么处理么
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相信自己,我一定会成功
5楼
2015-05-15 15:46:00
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