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光学设计专刊征稿 《激光与光电子学进展》是中科院上海光机所主办的的科技进展类期刊，中文核心期刊，创刊于1964年，是国内第一本激光领域的专业期刊。本刊以及时报道国内外激光与光电子学领域科技的最新研究成果与技术应用为宗旨，促进国内外学术交流，沟通科研与产业的联系。 光学设计是光学产业的高级技术之一，在光电、半导体、汽车等行业中起着重要的作用。为了深入研讨光学设计技术，探索光学设计最新理念、成功案例，《激光与光电子学进展》 将于2008年12期推出“光学设计”专刊，现向光学设计研发、应用人员公开征稿，具体要求如下： 1. 来稿可以为综述、研究论文和实例分析，综述要求内容全面，能反映最新研究进展；研究论文要求具有创新性；实例分析要求应用性强，分析深入，有一定的代表性； 2. 综述要求第一作者有丰富的光学设计经验， 在某一方面有较深入的研究或者能够纵观全局,字数不限； 3. 研究论文和实例分析字数在5000-10000，优秀文章更可获得光学设计专家的点评和指导; 4. 本次专题征稿截止时间为2008年10月15日，可在本刊主页投稿或通过信箱投稿lop@siom.ac.cn，如有问题欢迎垂询（021-69918166）； 5. 本次专题征稿审稿通过，在本刊发表不收取版面费； 本期光学设计专刊，同期报道上海光机所第5届光学设计高级讲习班、光学设计大赛，欢迎投稿，敬请关注。 [ Last edited by siomer on 2008-7-14 at 21:50 ] |
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