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freeman3铁虫 (小有名气)
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急问-请教薄膜方面专家
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急问-请教薄膜方面专家 最近想做一些物理法渡膜的工作,但是对有些基本的问题还不是太懂,在这里请教一下。 对于目前常用的镀膜方法,比如 electron-beam deposition, ion-beam depositon(Ar+), radio-frequency 磁控溅射,这三个方法比起来,是不是在精确度方面e-beam>ion-beam>磁控溅射? 此外,film的质量呢?比如多孔性,疏松性,结晶性质等,是否有什么区别? 我现在用的是Ar离子辅助的 ion-beam deposition,所以更想知道这个方法得到的膜的一些特征(target为SiO2,设备为Gatan 682 precise etching and deposition system)。 非常感谢大家! |
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铁虫 (小有名气)
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