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freeman3

铁虫 (小有名气)

[交流] 急问-请教薄膜方面专家

急问-请教薄膜方面专家
最近想做一些物理法渡膜的工作,但是对有些基本的问题还不是太懂,在这里请教一下。

对于目前常用的镀膜方法,比如 electron-beam deposition, ion-beam depositon(Ar+), radio-frequency 磁控溅射,这三个方法比起来,是不是在精确度方面e-beam>ion-beam>磁控溅射?

  此外,film的质量呢?比如多孔性,疏松性,结晶性质等,是否有什么区别?

我现在用的是Ar离子辅助的 ion-beam deposition,所以更想知道这个方法得到的膜的一些特征(target为SiO2,设备为Gatan 682 precise etching and deposition system)。

非常感谢大家!
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freeman3

铁虫 (小有名气)

你好,那一般而言,ion-beam 溅射沉积的SiO2  层是否呈现非晶以及porous的性质呢?
因为我做的是这个体系。(溅射速度比较大,是0.1nm/s)
谢谢回答!~
3楼2008-07-08 17:54:46
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遇事三思

铜虫 (初入文坛)

e-beam>ion-beam>磁控溅射,你说的很对,e-beam deposition在三种方法中是最精密的,因为它的速率可控并且可以用RHEED实时监控,结晶性也是最好的。
2楼2008-07-08 17:45:19
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