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surwait

铜虫 (小有名气)

[交流] 求使SiO2表面产生很多羟基的办法 (至7月30日)

 我制出了比较多的SiC,现在已经氧化让其表面生成了SiO2,但是SiO2表面羟基的数量比较少,想知道有没有好的办法可以使SiO2表面产生很多羟基.
 希望高手指点!
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surwait

铜虫 (小有名气)

我的SiO2是SiC氧化产生的,因为氧化的温度很高,所以表面的OH很少。不是水解产生的
8楼2008-06-17 11:02:38
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bosshit

木虫 (小有名气)

★ ★ ★
surwait(金币+3,VIP+0):谢谢了,我实验室没有等离子体的条件!
可以用氧等离子刻蚀。
2楼2008-06-16 20:44:55
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lxtxgn

铁杆木虫 (正式写手)

★ ★ ★
surwait(金币+1,VIP+0):谢谢了,我实验室没有等离子体的条件!
surwait(金币+2,VIP+0):谢谢了,我实验室没有等离子体的条件!
氧等离子刻

再者,如果是SiO2 的话 它的表面本身就要吸附水分子 因此就是带有羟基的

LZ 是不是再看看是不是表面并非全部形成了 SiO2 啊
3楼2008-06-16 22:06:51
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zhanglizhi

银虫 (正式写手)

直接用NaOH稀溶液
4楼2008-06-16 23:25:20
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