| 查看: 706 | 回复: 0 | |||
[交流]
多晶制绒后酸碱残留导致扩散方阻降低
|
|
多晶制绒后，在三个硅片上分别滴了一滴酸、碱、水，待自然晾干后，进行正常工艺扩散，扩散后，测方阻，比正常值下降了很多，为什么？ [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ] |
回复此楼» 猜你喜欢
科研工作者面临的几个矛盾，你会怎么选
已经有2人回复
-
阴离子交换膜电解槽电压衰减原因
已经有0人回复
-
高分子科学论文润色/翻译怎么收费?
已经有186人回复
-
求助两份与强制降解有关的文献，多谢
已经有1人回复
-
声化学
已经有0人回复
-
铜的植物缓蚀剂研究
已经有1人回复
-
合成树脂过程中的气泡问题
已经有5人回复
-
26年电池方向博士申请
已经有2人回复
-
大连工业大学杰青/长江团队-生物质材料-储能电池方向招收2026级博士生
已经有16人回复
-
博士申请咨询
已经有1人回复