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多晶制绒后酸碱残留导致扩散方阻降低
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多晶制绒后,在三个硅片上分别滴了一滴酸、碱、水,待自然晾干后,进行正常工艺扩散,扩散后,测方阻,比正常值下降了很多,为什么? [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ] |
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