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多晶制绒后酸碱残留导致扩散方阻降低
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多晶制绒后，在三个硅片上分别滴了一滴酸、碱、水，待自然晾干后，进行正常工艺扩散，扩散后，测方阻，比正常值下降了很多，为什么？ [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ] |
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