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shenxw2008铜虫 (小有名气)
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篇名：Germanium MOSFET Devices: Advances in Materials Understanding, Process Development, and Electrical Performance 作者：D. P. Brunco et al. 期刊：J. Electrochem. Soc. 155, H552 (2008) 链接：http://scitation.aip.org/vsearch ... p;%5Bsearch%5D.y=24 篇名：Mask process effect aware OPC modeling 作者：Kyoil Koo et al. 期刊：Proc. SPIE 7028, 70283E (2008) 链接：http://scitation.aip.org/vsearch ... age=1&chapter=0 篇名：EUV mask process development status for full field EUV exposure tool 作者：Tsukasa Abe, Takashi Adachi, Hideo Akizuki, Hiroshi Mohri, Naoya Hayashi, and Kosuke Ishikiriyama 期刊：Proc. SPIE 7028, 70281Q (2008) Order Document 链接： http://scitation.aip.org/vsearch ... age=1&chapter=0 篇名：The lithography technology for the 32 nm HP and beyond 作者：Mircea Dusa, Bill Arnold, Jo Finders, Hans Meiling, Koen van Ingen Schenau, and Alek C. Chen 期刊： Proc. SPIE 7028, 702810 (2008) 链接： http://scitation.aip.org/vsearch ... age=2&chapter=0 [ Last edited by ddx-k on 2008-12-14 at 19:54 ] |
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