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zw_tju木虫 (小有名气)
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【求助】锡能做溅射靶吗
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锡能做溅射靶吗?用的是磁控溅射,对靶的熔点有没有什么要求,溅射时靶温有多高? [ Last edited by lvzhu2007 on 2008-5-25 at 16:40 ] |
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2楼2008-05-26 18:44:26
元小雪
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3楼2008-05-26 19:36:01
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4楼2008-05-26 20:00:56
zw_tju
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5楼2008-05-28 15:20:56
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musi429(金币+1,VIP+0):多谢交流~~
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用射频磁控溅射就不会有靶中毒了。举例来说,在制备TiAlN薄膜时,通入的工作气体N2不但与沉积在工件上的膜层原子反应形成化合物膜,同时还会与靶材(Ti靶、Al靶或复合靶)反应在靶面上形成化合物产生“靶中毒”现象,此时,入射离子不是在对金属靶材进行溅射,而是在溅射不断形成的表层化合物。因此,反应溅射过程中会出现两种不同的溅射模式,即溅射速率相对较高的金属模式和溅射速率相对很低的化合物模式。靶材形成化合物层造成溅射模式发生上述变化的现象,即称为靶材的中毒 [ Last edited by 渔翁860 on 2008-5-29 at 09:24 ] |
6楼2008-05-29 09:19:15
孙?�730
至尊木虫 (知名作家)
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granular
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9楼2008-06-03 09:26:20
timoshenko
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