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流泪的沙砾

铁杆木虫 (正式写手)

[求助] 涂层中AlN相和SiN相氧化时哪个更稳定??

请教各位虫友,我沉积制备了AlSiON涂层,含有AlN(Al)、SiN、Al2O3和SiO2相,Al、Si原子比基本为1:1。经过750℃,100h的恒温氧化后,XRD检测发现氧化后涂层中只含有AlN相、大量的纯Si相。涂层中SiN先于AlN生成,氧化时按道理SiN比AlN更稳定啊,应该是AlN先被氧化啊,结果为Al2O3和SiN才合理啊,怎么SiN先被夺走了N生成了Si 呢。麻烦各位指教,必有重谢!!!
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别人对自己的否定都是假象,只有自己的才是最真的
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