| 查看: 626 | 回复: 0 | ||
流泪的沙砾铁杆木虫 (正式写手)
|
[求助]
涂层中AlN相和SiN相氧化时哪个更稳定？？
|
| 请教各位虫友，我沉积制备了AlSiON涂层，含有AlN（Al）、SiN、Al2O3和SiO2相，Al、Si原子比基本为1:1。经过750℃，100h的恒温氧化后，XRD检测发现氧化后涂层中只含有AlN相、大量的纯Si相。涂层中SiN先于AlN生成，氧化时按道理SiN比AlN更稳定啊，应该是AlN先被氧化啊，结果为Al2O3和SiN才合理啊，怎么SiN先被夺走了N生成了Si 呢。麻烦各位指教，必有重谢！！！ |
回复此楼» 猜你喜欢
德国回国后的感想
已经有0人回复
-
德国回国后的感想
已经有0人回复
-
机械工程论文润色/翻译怎么收费?
已经有56人回复
-
德国回国后的感想
已经有0人回复
-
德国回国后的感想
已经有0人回复
-
德国回国后的感想
已经有0人回复
-
德国回国后的感想
已经有0人回复
-
中国劳动关系学院资源与环境（安全工程领域）专业硕士研究生尚有可调剂名额
已经有1人回复
-
优质试剂瓶品牌推荐：可替代Nalgene试剂瓶的优选之选
已经有0人回复
