| 查看: 697 | 回复: 0 | ||
流泪的沙砾铁杆木虫 (正式写手)
|
[求助]
涂层中AlN相和SiN相氧化时哪个更稳定??
|
| 请教各位虫友,我沉积制备了AlSiON涂层,含有AlN(Al)、SiN、Al2O3和SiO2相,Al、Si原子比基本为1:1。经过750℃,100h的恒温氧化后,XRD检测发现氧化后涂层中只含有AlN相、大量的纯Si相。涂层中SiN先于AlN生成,氧化时按道理SiN比AlN更稳定啊,应该是AlN先被氧化啊,结果为Al2O3和SiN才合理啊,怎么SiN先被夺走了N生成了Si 呢。麻烦各位指教,必有重谢!!! |
» 猜你喜欢
【模拟经典书】《Handbook of Materials Modeling》2020年 第2版
已经有6人回复
国自然申报交流祈福
已经有153人回复
机械工程论文润色/翻译怎么收费?
已经有198人回复
哈尔滨理工大学材料加工工程专业26秋入学博士尚有少量招生名额
已经有0人回复
科研工业磁场实验优选!WDS-50卧式电磁铁
已经有0人回复
[2027 考博] 上海・|激光焊接 / 增材制造 / 机器人智能装备 招博士
已经有112人回复
英国埃克塞特大学(QS 136)招CSC博士生,3D打印增材制造方向
已经有4人回复
加拿大Western University招收2027年博士生|增材制造、复合材料与可持续材料
已经有0人回复
中南大学轻研院/机电学院/极端制造国重(优青、长江团队)招27年博士后-智能制造方向
已经有0人回复
中南大学轻研院/机电学院/极端制造国重(优青长江团队)招27年硕博、博后-智能制造方向
已经有0人回复











回复此楼