| 查看: 310 | 回复: 0 | ||
tagzhh木虫 (著名写手)
|
[求助]
想用KH580修饰表面羟基的碳点，不知道该在酸还是碱性下比较好
|
|
KH580，γ-巯丙基三乙氧基硅烷。 合成的碳点表面含有羟基，所以想用KH580表面修饰上巯基，没看到过用来修饰碳点的， 查资料看这个KH580在酸性下容易Si-O-Si交联，想问下大家有什么意见么，在酸性还是在碱性下用好。 另外该怎么除去未反应的KH580呢，现在想想只能透析呐。 |
回复此楼» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有218人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
-
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件，或者CCDC号
已经有0人回复
-
河北大学-26年秋季入学申请考核制-化学博士1名
已经有0人回复
-
XPS/?λXPS
已经有0人回复