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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 综合其他 » 衬底+正胶+二氧化硅，求制备工艺，要求在制备过程中尽可能不曝光光刻胶
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你的思路有问题，这个工艺不能这么做。
你要在光刻胶上coating一层透明材料，方法有很多，其中plasma起作用的，温度超过100度的，都不能用，那么最简单直接的方法就是在光刻胶上旋涂一层别的透明保护材料。而这种材料有很多，只要和你的光刻胶互不相容就ok了，比如PMMA，比如SU8等等等等。
还有一个思路，就是为毛非要在你的衬底的光刻胶上涂透明层？？？不能再掩模上涂吗？这取决于你对透明层功能的需求，但你几篇帖子下来还是语焉不详，这样求助的效率实在太低……
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11楼2014-11-24 13:40:17
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木星人士

新虫 (正式写手)
引用回帖:
11楼: Originally posted by yswyx at 2014-11-24 13:40:17
你的思路有问题，这个工艺不能这么做。
你要在光刻胶上coating一层透明材料，方法有很多，其中plasma起作用的，温度超过100度的，都不能用，那么最简单直接的方法就是在光刻胶上旋涂一层别的透明保护材料。而这种材 ...

谢谢你的建议！选用与底层正性光刻胶不相容的PMMA或SU8作为透明层，在曝光后显影是一个问题，不知道怎样解决
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12楼2014-11-24 19:37:12
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木星人士

新虫 (正式写手)
引用回帖:
11楼: Originally posted by yswyx at 2014-11-24 13:40:17
你的思路有问题，这个工艺不能这么做。
你要在光刻胶上coating一层透明材料，方法有很多，其中plasma起作用的，温度超过100度的，都不能用，那么最简单直接的方法就是在光刻胶上旋涂一层别的透明保护材料。而这种材 ...

刚才查了一下，PMMA可以溶解在氯仿溶液里，属于物理性溶解。不知道一般的正胶会不会溶解在氯仿溶液里，明天去验证一下，谢谢你！
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13楼2014-11-24 21:15:43
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spiderman504

金虫 (小有名气)
引用回帖:
5楼: Originally posted by 木星人士 at 2014-11-23 13:33:29
不是的，是需要在二氧化硅上面放充当掩模的器件，掩模比较特殊，所以才需要在掩模和光刻胶直接加一个透明层
...

还是不太明白，要不你把流程图拿上来看看，感觉你是想用二氧化硅做掩膜，担心光刻胶经不住刻蚀才沉积的二氧化硅做掩膜的，是这个意思吗？
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由于您的签名过于个性，小木虫暂时无法显示。。。
14楼2014-11-24 21:39:42
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木星人士

新虫 (正式写手)
引用回帖:
14楼: Originally posted by spiderman504 at 2014-11-24 21:39:42
还是不太明白，要不你把流程图拿上来看看，感觉你是想用二氧化硅做掩膜，担心光刻胶经不住刻蚀才沉积的二氧化硅做掩膜的，是这个意思吗？...

不是，掩模是放在二氧化硅上面，因为涉及到实验的创新点，不便透露。抱歉

[ 发自小木虫客户端 ]
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15楼2014-11-24 22:24:02
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LEEZCZC

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
有没有考虑过使用双层光刻胶？还是因为你想mask不接触胶
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16楼2014-11-25 17:46:46
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木星人士

新虫 (正式写手)
引用回帖:
16楼: Originally posted by LEEZCZC at 2014-11-25 17:46:46
有没有考虑过使用双层光刻胶？还是因为你想mask不接触胶

有考虑，但需要两种胶的溶剂不同，且上层胶去除时不影响下层胶。请问能推荐一些能符合这些条件组合的光刻胶(都是薄胶，100nm左右)吗?
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17楼2014-11-25 19:55:20
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