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FP腔三层结构：底层高反Al，中层透明介质，顶层带纳米图案的Cu层，模拟透过现象
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大家好！继续先前的相关模拟。采用comsol4.4，三层结构：底层高反Al，中层透明介质（激光材料作为FP腔材料），顶层带纳米图案的介质层，port 1 端口放在底层和中层的界面上，波矢k竖直向上，TE波，port 2 置于顶层的外边界面。周期边界，顶层外加PML，模拟透过现象，对频率参数化扫描。建模完成，计算，无报错。但也没得到理想的结果（透过率为零）。 问题：1. 建模时未采用先计算背景场，再计算全场，是否可行？因为激光材料处于结构中间层，底层不透光，没想到怎样设置才能先计算背景场，再计算全场。 2.comsol4.4中，在port端口设置时，若勾上activate slit conditon on the interior port boundary，则可选择内部边界。这个版本的port端口可否像如上设置？ 3. 有模拟过类似结构的虫友吗？希望能向你们学习学习。 谢谢！ |
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:-) [ 发自小木虫客户端 ] |
2楼2014-10-13 13:19:36
3楼2014-10-13 23:59:50
4楼2018-03-06 14:09:08
5楼2019-07-09 17:04:45