| 查看: 805 | 回复: 1 | |||
[交流]
【求助】请教个关于MS中reflex模块拟合XRD谱图的问题？ 已有1人参与
|
|
我采用reflex模块进行rietveld精修一个二肽分子的晶体结构，发现如果不精修原子占有率的话，Rwp只能达到35%,而精修所有的原子的占有率化，可以达到15%，大家知道这个原子占有率是什么意义吗，可不可以全部精修， 谢谢！ 另外，一般reflex中的rietveld精修的Rwp达到多低就算差不多呢？ [ Last edited by hanbao on 2008-5-1 at 00:32 ] |
回复此楼» 猜你喜欢
网络举报学术不端成为了男女之间情杀的手段了，真荒唐。。。
已经有3人回复
-
大龄残疾硕士的一点执念
已经有20人回复
-
2026年面上项目中了，2A+B, 会评顺利通过
已经有12人回复
-
Suzuki偶联中硼酸酯原料掉下的硼酸酯是否可以自身偶联，生成B2Pin2杂质
已经有3人回复
-
今年E04面上
已经有19人回复
-
刑法学论文投稿求助
已经有5人回复
-
Journal of Environmental Chemical Engineering
已经有3人回复
-
最后一年，祈求好运
已经有3人回复
-
风电环氧领域
已经有3人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
2楼2011-03-25 14:23:34