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如何通过建模来分析发光薄膜的发光强度
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我采用了电子束蒸镀的技术在基底沉积了一层掺铕的氧化钇发光薄膜，沉积过程中改变了电子束电流，靶基距，沉积时间，因此导致了薄膜发光亮度的变化，所以我导师让我看能不能建立相关模型来分析这种规律（发光强度受沉积条件的影响），其实我自己想应该是有关薄膜厚度和发光强度的模型吧。 还有就是对于一种沉积条件下获得的薄膜我还研究了退火工艺对发光强度的影响（退火后，发光薄膜出现了惨痛的裂纹），这也需要通过模型对数据进行分析。 可是我真的不知道如何下手，完全不懂  目前脑海里面就是想，Y2O3：Eu3+的发光主要还是铕离子受激发后电子能级之间的跃迁，最后由电子从激发态返回基态时发光，也就是说发光强度的大小主要是受到多少电子的跃迁吧，笼统来说就是建立这两者之间的一个关系式，可是觉得那不是一般的难啊 完全没有头绪，不知道能不能走建模这条路哪位高手帮忙支支招吧，万分感激啊！ |
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