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optical transmission through hole arrays 周期边界设置问题
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大家好！最近我在模拟重现：Extraordinary optical transmission through sub-wavelength hole arrays 结构挺简单： 石英衬底+带有通孔（直径150nm）阵列（周期900nm）的Ag薄膜（厚度200nm）,正入射光326nm，关注透过率。 建模：1.采用了Port端口的Floquet periodicity，出射场和入射场材料不同，且考虑了PML layer,因此考虑先计算背景辐射源。 2.将背景辐射源作为激发场。 问题：设置的周期边界条件和网格剖分不知是否合适，请大家帮忙看看，谢谢！ 上传模型版本comsol 4.3b |
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2014-09-30 15:37:19, 3.56 M
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