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zxr20786木虫 (正式写手)
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[讨论]磁控溅射（二）
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前段时间由于我的实验仪器（沈阳科友的磁控溅射镀膜仪，用来做光学薄膜）出现了一些问题，导致不能做实验，在此论坛发过一次帖子，得到一些虫友的热心帮助，特此感谢！！ 经过我的一段时间的摸索，现在问题终于找到，也解决了，主要如下： （1）磁控溅射系统的三个靶（两个射频靶，一个直流靶）内部结构是一样的，只不过用的电源不同而已，射频靶用的是13.6M Hz的射频电源，而直流靶用的当然是直流电源，只要接上不同的电源，直流靶可以当射频靶来用，反之亦然。 （2）由于我在做实验的时候需要加热（或者仪器用的时间长），靶上的磁铁出现了严重的褪磁，表现的现象就是无法起辉，或者辉光不断闪烁。原因就是靶上的磁铁褪磁，当然其它原因也是有的比如水冷却效果不好等。如果靶上的磁铁是由几块磁铁拼合而成的（我这仪器就有一个靶是拼合而成，另两个是完整的），则会出现部分褪磁现象，导致靶上的磁场不均匀而无法起辉或辉光闪烁。 这是我在做实验的时候发现的，写出来与大家分享，希望有用磁控溅射做薄膜虫友在这遇到这方面问题时，别像我走了弯路后才发现这问题， 有兴趣的朋友可以一起讨论，QQ: 24439318 [ Last edited by zxr20786 on 2008-4-24 at 10:47 ] |
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