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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 催化 » 催化剂制备 » 如何控制所合成二氧化硅表面的羟基浓度？
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新雨

至尊木虫 (著名写手)

[交流] 如何控制所合成二氧化硅表面的羟基浓度？

现在想合成一些二氧化硅（不是介孔分子筛），希望可以通过对合成过程的控制而控制其表面羟基浓度。

很希望能制备出表面具有较高孤立羟基的二氧化硅。

不知道有什么方法可以达到目的？

另外，有哪些后处理的方法可以增加二氧化硅表面的羟基浓度？


谢谢大家了！
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1楼 2008-04-23 21:55:22
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racky

铁杆木虫 (正式写手)

TS
焙烧条件控制
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rackywan
2楼2008-04-24 18:57:38
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racky

铁杆木虫 (正式写手)

TS
★
nxl5096224(金币+1,VIP+0):谢谢关注！
掺杂也会有效
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rackywan
3楼2008-04-24 18:57:57
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zyhou

专家顾问 (文坛精英)
★
^_^@^_^(金币+1,VIP+0):感谢对催化版的支持：）
这个我做过！可以调节预处理温度和预处理气氛，在300度左右用30％的水蒸气处理一下，表面羟基的量会增加。
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4楼2008-04-25 07:44:41
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