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axuqiluo

银虫 (初入文坛)

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[求助] 版图DRC 已有1人参与

过版图DRC的时候，出现了图片中的问题。本次DRC验证使用TSMC 0.35工艺。请问这是什么原因，该如何解决，谢谢

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1楼 2014-08-11 16:12:24

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crest_2008

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【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1

latch-up错误。你看下TSMC的pdk文件里有没有LAT1.3A/B的具体解释，Design rule文件说明。
估计是源漏区距离衬底接触太远，大于20um之类。希望能帮到你。

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2楼2014-08-11 23:28:55

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axuqiluo

银虫 (初入文坛)

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引用回帖:

2楼: Originally posted by crest_2008 at 2014-08-11 23:28:55
latch-up错误。你看下TSMC的pdk文件里有没有LAT1.3A/B的具体解释，Design rule文件说明。
估计是源漏区距离衬底接触太远，大于20um之类。希望能帮到你。

非常感谢，确实是这样的，我看了design rule后，在n-well中加入一些M1-N就可以了，在nmos周围加了一些M1-P

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3楼2014-08-14 13:02:11

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