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monicapig

铜虫 (初入文坛)

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[求助] 求助关于电化学工作站的槽压问题已有6人参与

各位周末好
电化学小白紧急求助关于电化学工作站的槽压问题，包含以下小问题。。。。
1.槽压是加在哪两个电极之间的？是工作电极和对电极么？是仪器自动施加还是可以根据测试需求调整槽压大小？
2.我们在合作单位在进行循环伏安测试时（扫描电位±5V），发现他们的普林斯顿P4000运行的时候声音很大。。。不知道是否和槽压有必然联系（槽压±48V，貌似比一般的设备都要高啊。。。）如果使用这样的设备，要对一个样品做长时间的循环伏安扫描（比如10个小时），是否会损伤仪器？
3.我们有一些想要进行EIS测试的样品，特点是样品是高阻抗，采用两电极体系，测试的时候是将参比和对电极短接，既施加了交流振幅又加直流电压（5V），请问这个时候还有槽压参与到测试中么？
4.问以上三个问题的主要原因是我们也想买一台电化学工作站，主要测试目的就是长时间的循环伏安扫描和高阻抗体系的EIS测试，比较倾向P4000这台设备，但是不知道高槽压这个特点到底对这两个测试有什么影响，以及设备工作时候的噪声-高槽压-设备容易坏掉这三者之间不知道是否有关系。也看了看其他设备，如德国zahner，瑞士万通的autolab等,但是Zennium的软件不好用，PGSTAT204貌似出来没多久，所以担心稳定性的问题，而且不知道测阻抗到底行不行。如果有用过以上设备的老师也欢迎给一些指导经验。
因为对电化学知识不熟悉，问的问题也可能不大对路，还请大家不吝赐教。谢谢啦~~

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