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yang2325182

金虫 (正式写手)

[求助] 求大神material studio帮忙，简单重复一篇文献

具体要求

比较优化前后铜晶胞的晶格参数。两图对比，增大还是减小？变化？%。
要求表面方向调整
表面吸附O-离子，图示体原子和表面原子，说明哪些原子要进行弛豫。
用切片显示O-离子吸附后的电荷密度差。
计算结束后，图示project的文件结构。
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o(╯□╰)o
1楼 2014-06-10 14:16:04
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yang2325182

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 翔弟 at 2014-06-10 14:57:22
考试就好好考。

好歹我也会优化。。。就是文献后边看不懂好不啦
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o(╯□╰)o
3楼2014-06-10 15:03:29
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翔弟

银虫 (小有名气)
考试就好好考。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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2楼2014-06-10 14:57:22
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ht_sun

金虫 (正式写手)
你要的这些都不难     很快就能学会     建议lz自己整    剽窃可耻
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自强不息
4楼2014-06-11 09:59:31
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浔荆

木虫 (正式写手)
考试做的都是最简单的，现在别人帮你那是害你
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5楼2014-06-11 15:29:40
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