| 查看: 195 | 回复: 0 | ||
[求助]
使用离子束在硅片上沉积AlN，使用XRD测试结果只含N不含Al。为什么？
|
| 我使用的条件是衬底加热300度，沉积30分钟，氮气25 sccm, 氩气 25 sccm。 |
回复此楼» 猜你喜欢
分散剂NNO综合指南：性能、应用与储存
已经有0人回复
-
好奇怪的filecode
已经有7人回复
-
冶金与矿业论文润色/翻译怎么收费?
已经有281人回复
-
这样的filecode谁见过
已经有24人回复
-
2026国自然放榜时间
已经有9人回复
-
奇怪，两个人的filecode固定段从头到尾一模一样
已经有12人回复
-
确定了，国自然21号放榜
已经有9人回复
-
分享一下我之前已中青C的计划书的filecode
已经有5人回复
-
葡萄糖酸钠的产品特性、制备工艺及应用领域综述
已经有0人回复
-
今天放榜吗？
已经有17人回复
-
高效减水剂在水煤浆行业中的应用
已经有0人回复
投票:
10