| 查看: 181 | 回复: 0 | ||
[求助]
使用离子束在硅片上沉积AlN，使用XRD测试结果只含N不含Al。为什么？
|
| 我使用的条件是衬底加热300度，沉积30分钟，氮气25 sccm, 氩气 25 sccm。 |
回复此楼» 猜你喜欢
武汉纺织大学招生物材料、化学、高分子相关专业硕士生
已经有0人回复
-
武汉纺织大学招生物材料、化学、高分子相关专业硕士生-另有少量士兵计划可咨询
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有135人回复
-
[武汉纺织大学]材料学院[姜伟团队名称]课题组-2026年硕士研究生调剂信息
已经有0人回复
-
中国科学院·过程工程研究所·招聘海内外高层次人才---过程所“百人计划”
已经有1人回复
-
中国科学院·过程工程研究所·招聘海内外高层次人才---过程所“百人计划”
已经有5人回复
-
2026考博自荐
已经有4人回复
-
温敏水凝胶收缩
已经有0人回复
-
聚氨酯体系
已经有1人回复
-
聚氨酯体系发泡
已经有4人回复
-
PDMS膜在溶液中的离子透过率
已经有0人回复
