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²é¿´: 820  |  »Ø¸´: 4
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xunmengyuan

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RXMCDM: ½ð±Ò+1, ¶àлӦÖú£¡ 2014-04-15 17:27:09
xunmengyuan: ½ð±Ò+100, ·­ÒëEPI+1, ¡ï¡ï¡ï¡ï¡ï×î¼Ñ´ð°¸ 2014-04-16 09:05:25
[ ¸Ðл½±ÉÍ ]
Al2O3 layers as thin as 10nm has been achieved by _[Sol-Gel]??_ crystalization in 200nm thick ZrO2/Al2O3/ZrO2 and Al2O3/ZrO2/Al2O3 stack structures with very low leakage current

¸½×¢:
-1- [ͼ #1] ²»Öª LZ ÊÇ·ñÓÃÁË Sol-Gel ½á¾§·¨,ÏÂÔØÒÔÏÂÎÄÕºó¾õµÃÊÇ
  https://iopscience.iop.org/1757- ... /MSE10_8_012027.pdf

-2- [ͼ #2] ÒÔÏÂÏà¹ØÎÄÕÂÕªÒªÊõÓï¶à,µ« LZ ÈçÕæ [ÏóÎÒÏëÏóµÄ] ʵÏÖÁË
        ZrO2 [16nm] / Al2O3 [10nm] / ZrO2 [16nm] ....  [×ܺñ¶È: 200nm]
     ÊõÓï¶àÉÙ,Àíµ±´ÎÒª
  https://www.researchgate.net/pub ... or-metal_capacitors
--------------------------
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[Danyu Zhou 2010].jpg

2Â¥2014-04-15 16:12:09
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mac194

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RXMCDM: ½ð±Ò+1, ¶àлӦÖú£¡ 2014-04-15 17:26:54
xunmengyuan: ½ð±Ò+20, ¡ïÓаïÖú, ¶àл¶àл 2014-04-16 09:05:45
СÐÞÕý:
  NO: " ...has been achieved..."
YES: "... have been achieved..."
3Â¥2014-04-15 16:18:57
ÒÑÔÄ   ¹Ø×¢TA ¸øTA·¢ÏûÏ¢ ËÍTAºì»¨ TAµÄ»ØÌû

xunmengyuan

½û³æ (ÕýʽдÊÖ)

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4Â¥2014-04-16 09:06:39
ÒÑÔÄ   ¹Ø×¢TA ¸øTA·¢ÏûÏ¢ ËÍTAºì»¨ TAµÄ»ØÌû

mac194

Ìú³æ (Ö°Òµ×÷¼Ò)

ÒýÓûØÌû:
4Â¥: Originally posted by xunmengyuan at 2014-04-16 09:06:39
ÄãºÃ£¬Ê×ÏÈÊ®·Ö¸ÐлÄã°Ùæ֮ÖиøÎһظ´µÄÕâôÏ꾡£¬Íò·Ö¸Ðл£¬ÎÒÃÇ¿ÉÒÔÈÏʶÂ𣿿ÉÒÔÁô¸öÄãµÄÁªÏµ·½Ê½£¿...

Çë²éÂÛ̳ÓÊÏä
5Â¥2014-04-16 12:40:29
ÒÑÔÄ   ¹Ø×¢TA ¸øTA·¢ÏûÏ¢ ËÍTAºì»¨ TAµÄ»ØÌû
Ïà¹Ø°æ¿éÌø×ª ÎÒÒª¶©ÔÄÂ¥Ö÷ xunmengyuan µÄÖ÷Ìâ¸üÐÂ
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