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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 在有300nm氧化硅的500um厚的硅基底想刻一个5-10um的槽，怎么实现，ICP可以么
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匿名

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1楼 2014-03-27 18:35:48
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
nejx: 金币+10, ★有帮助 2014-06-13 13:25:46
肯定要用ICP刻蚀。
掩模直接用光刻胶，5~10um的深度的话很轻松。
光刻完以后可以用HF漂氧化层，然后再去刻蚀。
如果觉得HF不好，可以先RIE可氧化层，再ICP刻硅。
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2楼2014-04-18 18:22:48
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