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汕头大学海洋科学接受调剂
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liguozun

银虫 (小有名气)

[交流] 镀膜速率 已有3人参与

射频磁控溅射镀膜的速率都是多少
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1楼 2014-03-18 10:26:24
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maya5428

铜虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
内容量太大 要考虑到的东西很多。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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2楼2014-03-18 19:05:34
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liguozun

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by maya5428 at 2014-03-18 19:05:34
内容量太大 要考虑到的东西很多。

我的意思是大家平时做溅射实验的薄膜沉积速率都是多少，出来交流一下，可能帖子意思没表达清楚，呵呵。

[ 发自小木虫客户端 ]
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3楼2014-03-19 07:31:03
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zhaolianbo

木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
穿越千年: 欢迎来本版交流 2014-03-20 09:15:44
普遍较慢，我做的一般是10nm/min，但是影响因素太多
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4楼2014-03-19 08:16:47
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liguozun

银虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by zhaolianbo at 2014-03-19 08:16:47
普遍较慢，我做的一般是10nm/min，但是影响因素太多

额 我的20多  感觉有点偏快 是不是测得不准啊
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5楼2014-03-19 08:37:36
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zhaolianbo

木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
5楼: Originally posted by liguozun at 2014-03-19 08:37:36
额 我的20多  感觉有点偏快 是不是测得不准啊...

20多nm/min正常的，只要薄膜附着力好久ok
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6楼2014-03-20 08:32:45
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liguozun

银虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by zhaolianbo at 2014-03-20 08:32:45
20多nm/min正常的，只要薄膜附着力好久ok...

谢谢
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7楼2014-03-20 15:29:49
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刺客yl

铁虫 (正式写手)
★
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磁控溅射速率还是根据你设备功率有关。一般几十纳米左右吧，每分钟。慢一点几纳米都行，但是不太均匀了。还有就是基底温度要控制好，影响膜材料附着能力，附着差的话，长得也慢。当然了，如果基底在靶材的下部的话，影响不太大
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8楼2014-04-01 10:47:13
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