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l577997201

金虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 眼镜片1 at 2014-03-10 08:43:49
貌似这个羟基即使是经过了接枝处理等等 还是存在的 至于最最根本的基础原因   确实不是很清楚

关于二氧化硅表面的羟基  在红外峰上面的   1700处  是吸附水造成的  在3100-3500处  是表面的羟基
因此  这个是 ...

貌似二氧化硅分为疏水和亲水,这样的话个人觉得应该是水解时生成的羟基。。。
11楼2014-03-12 11:09:46
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lll6001835

新虫 (初入文坛)

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3楼: Originally posted by 万德尔 at 2014-03-10 08:56:49
问题是如何去除!

你要除硅羟基??煅烧一下就没了。各种种类的羟基都可以通过不同煅烧温度除去
12楼2014-04-18 15:49:12
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qwt243120621

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 眼镜片1 at 2014-03-10 08:43:49
貌似这个羟基即使是经过了接枝处理等等 还是存在的 至于最最根本的基础原因   确实不是很清楚

关于二氧化硅表面的羟基  在红外峰上面的   1700处  是吸附水造成的  在3100-3500处  是表面的羟基
因此  这个是 ...

还有请教一下,这位兄弟!有什么方法可以诂数纳米二氧化硅表面有多少羟基呢?
13楼2014-09-16 18:54:51
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眼镜片1

银虫 (著名写手)

引用回帖:
13楼: Originally posted by qwt243120621 at 2014-09-16 18:54:51
还有请教一下,这位兄弟!有什么方法可以诂数纳米二氧化硅表面有多少羟基呢?...

核磁
14楼2014-09-16 19:40:45
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qwt243120621

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
14楼: Originally posted by 眼镜片1 at 2014-09-16 19:40:45
核磁...

可惜我们学校没有核磁,其实我想用偶联剂处理粉体时知道要用多少的偶联剂?
15楼2014-09-17 09:02:28
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眼镜片1

银虫 (著名写手)

引用回帖:
15楼: Originally posted by qwt243120621 at 2014-09-17 09:02:28
可惜我们学校没有核磁,其实我想用偶联剂处理粉体时知道要用多少的偶联剂?...

那你没必要用核磁了  这个不是说有多少你就能接上去不少的   和你接枝过程的溶剂、温度、颗粒分散程度等等都相关   
你测表面羟基多少没多大意义
16楼2014-09-17 10:03:22
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pengpeng0926

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
12楼: Originally posted by lll6001835 at 2014-04-18 15:49:12
你要除硅羟基??煅烧一下就没了。各种种类的羟基都可以通过不同煅烧温度除去...

羟基的脱除除了高温之外有没有别的方法呢,如果从节能的方面考虑的话,是否有好的可以尽量不使用高温的方法
17楼2016-12-12 20:27:05
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青青白白123

新虫 (小有名气)

楼主,请问你搞明白没有啊?为什么二氧化硅表面会有大量的羟基呢?
18楼2019-01-15 16:29:10
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lsx9096

铜虫 (小有名气)

楼主,请问您知道怎样检测二氧化硅表面的羟基数量吗?
19楼2019-10-16 08:17:15
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kitaro

金虫 (正式写手)

引用回帖:
18楼: Originally posted by 青青白白123 at 2019-01-15 16:29:10
楼主,请问你搞明白没有啊?为什么二氧化硅表面会有大量的羟基呢?

硅酸里,硅羟基之间缩合生成Si—O—Si键,没缩合的不就是硅羟基吗?
20楼2021-06-05 17:20:12
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