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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 合成MCM-41型介孔二氧化硅所遇到的一些问题。
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骑着蜗牛追火箭

木虫 (著名写手)

纳米小生
引用回帖:
8楼: Originally posted by 鸟蛋哥 at 2014-10-16 22:33:16
你好，我也正在做介孔二氧化硅MCM-41型，我想问一下 介孔二氧化硅除去TEOS 过程如下：介孔二氧化硅在甲醇与浓盐酸（3ml，37.4%）的混合液中形成悬浮液，然后溶液在回流下加热24h，纳米粒子然后过滤和用水和甲醇大量 ...

我是用稀盐酸回流除CTAB
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11楼2014-10-20 14:17:34
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冰雪柔情520

新虫 (初入文坛)
学长你好，我的课题中有一步也是合成介孔二氧化硅。有些问题想向您请教。还请不吝赐教，万分感谢！！！
不知道学长是否用此配方可以得到六方孔道的MCM-41型介孔二氧化硅吗，我试着做了下，拍电镜后虽然有孔但是呈现指纹状，不知道学长遇到过这样问题吗，真的愁死了。
我们老师说这样CTAB浓度低，不会形成六方相液晶。对于我出现的问题还望您可以指点迷津
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12楼2016-09-18 10:59:55
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