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[交流]
硅片镀氧化锌薄膜，如何测电性能（非线性数），附图（自己的实验方法）
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各位虫友好： 最近我在测试自制的氧化锌薄膜时，当电流继续增大，虽然能观测到电压变化逐渐变小，到最后在某一值附近微动，往往测不到理想的U-I曲线图，并且文献中所讲非线性常数的计算，利用1mA对应电压，与0.1mA对应电压，进行计算，但我发现这个阶段我的图像处于线性区域，计算出的非线性常数为1这样，有人知道如何计算非线性常数的方法吗？我把我的实验样品放上去，大家看看有什么问题，某一组样品测试前电阻为2.66K欧姆，而测试完成后变成160欧姆，之后就没法测出稳定的电压了，是因为击穿无法回复的原因吗？导致薄膜发生不可逆的损害吗？  IMG_20140227_203555.jpg  IMG_20140227_203514.jpg  300度U-I图.jpg |
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