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纳米制备艺术（26）：纳米T形栅和GAMA栅的研制
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【本木虫郑重申明：本木虫在这个网站里公布的所有纳米加工结果都是本人以往的亲身工作，无一抄搬他人成果】 采用PMMA/Al/UVIII光刻胶和电子束光刻技术，先要在光刻胶中做出这样的模板，然后蒸发镀金属层，最后去胶剥离，就做成了这样的T形栅。而在EBL中，要做两次曝光，一次是对宽的头部，另一步是对细的脚部进行曝光。显影后就出现了T形栅极。  同样，如果将脚部细线故意偏离中心，就做成了GAMA栅。  通过去胶剥离（lift-off）以后的T形栅。希望大家能欣赏我做的纳米T形栅。 |
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 纳米制备的艺术 |
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