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向阳花开1990

新虫 (初入文坛)

[求助] SOS江湖急救:SnO2包覆ZnO 已有1人参与

研一小菜我最近尝试在ZnO 上包覆一层SnO2,   采用水热法用Na2 SnO3和尿素在醇水混合溶剂中反应生成的SnO2。但在完全相同的反应的条件下,分别包覆在FTO(含SnO2 )上的ZnO阵列和Si衬底上的ZnO阵列,但出现两种不同的现象,FTO上的ZnO阵列被包覆情况为:ZnO纳米棒上有SnO2,包覆,但在阵列上端同时生成大量四方块体,而Si衬底上的ZnO阵列被报复情况为:SnO2,包覆均一,且有少量或者基本没有块状物生成。
疑问:1、为什么在相同的反应条件下,只是基底不同会出现包覆现象如此不同
      2、块状物到底是什么,应该如何调节才能在不影响包覆的前提下,合理控制或消除块状物。

SOS江湖急救:SnO2包覆ZnO
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SOS江湖急救:SnO2包覆ZnO-1
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向阳花开1990

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by gxytju2008 at 2014-02-22 15:01:26
基底不同形貌不同很正常的啊,FTO表面粗糙度很高的,Si片是非常平的,确定块体的话可以用EDSmapping,或者背散射成像也凑合,看看是啥成分再说

4楼2014-02-27 13:31:52
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
基底不同形貌不同很正常的啊,FTO表面粗糙度很高的,Si片是非常平的,确定块体的话可以用EDSmapping,或者背散射成像也凑合,看看是啥成分再说
2楼2014-02-22 15:01:26
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向阳花开1990

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by gxytju2008 at 2014-02-22 15:01:26
基底不同形貌不同很正常的啊,FTO表面粗糙度很高的,Si片是非常平的,确定块体的话可以用EDSmapping,或者背散射成像也凑合,看看是啥成分再说

老师您好,我是分别在FTO和si片上生长的氧化锌阵列,然后在相同条件下包覆的SnO2,出现了上述两种形貌,同时出现了块体,至于这个块体我怀疑是SnO2/ZnSnO3等锡基材料,如果是这样的话EDSmappin等操作时会出现所谓的飘或将块体打透,另外成分中只含Sn Zn O只分析元素能成吗,2.另外是不是FTO上的锡源会对其包覆有影响,还是Sn过量导致的,还是要调节包覆环境的PH(若要调节PH应在此反应中调节溶剂中醇水比例,还是应调节尿素量)多谢老师!
3楼2014-02-24 09:24:56
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